[发明专利]一种自匹配的基于像素的光学邻近修正方法及系统在审
| 申请号： | 201811458522.0 | 申请日： | 2018-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109543330A | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 王青;陈翰;张辰明;孟鸿林 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G06T7/00;G06T7/30 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种自匹配的基于像素的光学邻近修正方法及系统，该方法包括：步骤S1，输入初始输入图像，利用迭代采用梯度法，根据目标图形自匹配获得最优输入图形F0；步骤S2，对于输入图形，根据光学模型进行仿真得到虚像AI；步骤S3，对虚像AI采用固定参照曝光阈值的光刻胶模型得到轮廓；步骤S4，将得到的轮廓与目标图形，进行像素差异个数对比，得到像素差异个数值；步骤S5判断像素差异个数值是否大于可容忍范围；若大于可容忍范围，则进入步骤S6；否则终止OPC修正，得到掩模结果；步骤S6，利用梯度法求解代价函数最小值得到本轮OPC修正结果，并返回步骤S2。 | ||
| 搜索关键词： | 像素差异 匹配 光学邻近修正 目标图形 输入图形 梯度法 像素 虚像 光刻胶模型 代价函数 光学模型 输入图像 掩模结果 求解 迭代 曝光 返回 | ||
【主权项】：
1.一种自匹配的基于像素的光学邻近修正方法，包括如下步骤：步骤S1，输入初始输入图像，利用迭代采用梯度法，根据目标图形自匹配获得最优输入图形F0；步骤S2，对于输入图形，根据光学模型进行仿真得到虚像AI；步骤S3，对虚像AI采用固定参照曝光阈值的光刻胶模型得到轮廓；步骤S4，将得到的轮廓与目标图形，进行像素差异个数对比，得到像素差异个数值；步骤S5判断像素差异个数值是否大于可容忍范围；若大于可容忍范围，则进入步骤S6，否则终止OPC修正，得到掩模结果；步骤S6，利用梯度法求解代价函数最小值得到本轮OPC修正结果，并返回步骤S2。
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