[发明专利]光学层叠体及其制造方法有效
| 申请号： | 201811465427.3 | 申请日： | 2018-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN109870756B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 神野彩乃 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学层叠体，其依次包含保护膜、偏振板、一层以上的相位差层、以及粘合剂层，保护膜满足下式：第一弹性模量－第二弹性模量≥300MPa。式中，所谓第一弹性模量，是在温度23℃、相对湿度55％RH下的与偏振板的吸收轴正交的方向上的拉伸弹性模量，所谓第二弹性模量，是在温度23℃、相对湿度55％RH下的与偏振板的吸收轴平行的方向上的拉伸弹性模量。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层叠 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学层叠体，其依次包含保护膜、偏振板、一层以上的相位差层、以及粘合剂层，所述保护膜满足下式(I)：第一弹性模量－第二弹性模量≥300MPa(I)式中，所谓第一弹性模量，是在温度23℃、相对湿度55％RH下的与所述偏振板的吸收轴正交的方向上的拉伸弹性模量，所谓第二弹性模量，是在温度23℃、相对湿度55％RH下的与所述偏振板的吸收轴平行的方向上的拉伸弹性模量。
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