[发明专利]EUV投射光刻的照明系统有效
| 申请号： | 201811466330.4 | 申请日： | 2014-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN110068990B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | M.帕特拉;R.米勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种EUV投射光刻的照明系统，包含：光束成形光学单元(6)，用于从基于同步加速器辐射的光源(2)的EUV原始光束(4)产生EUV聚集输出光束(7)。解耦光学单元(8)用于从所述EUV聚集输出光束(7)产生多个EUV单独输出光束(9 |
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| 搜索关键词： | euv 投射 光刻 照明 系统 | ||
【主权项】：
1.一种EUV投射光刻的照明系统的光束引导光学单元(10)，其特征在于，所述光束引导光学单元(10)包含聚焦组合件(14；41；45；46；49；52；55)，其将各EUV单独输出光束(9i)传输至所述光束引导光学单元(10)的中间焦点(42)。
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