[发明专利]一种沉积装置及制备热解炭的方法有效
申请号: | 201811466903.3 | 申请日: | 2018-12-03 |
公开(公告)号: | CN109371379B | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 戴煜;吕攀;李志国;胡祥龙 | 申请(专利权)人: | 湖南顶立科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/458 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 410005 湖南省长沙市长沙经济技术*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种沉积装置,包括转动轴、进气通道、筒体、位于所述筒体内的沉积基板,所述筒体上设有盖板,所述盖板上开设有通孔,所述沉积基板与所述盖板相对设置,所述沉积基板与所述转动轴固定连接,所述筒体与所述进气通道连通。本发明所提供的沉积装置,通过转动轴带动沉积基板旋转,能够保证沉积气体及沉积膜厚度分布均匀,实现沉积气体在沉积基板上方均匀分布并沉积,延长沉积时间,可以得到大厚度且密度均匀的热解炭,同时本发明的结构简单,降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 装置 制备 热解炭 方法 | ||
【主权项】:
1.一种沉积装置,其特征在于,包括转动轴(5)、进气通道(7)、筒体(1)和位于所述筒体(1)内的沉积基板(4),所述筒体(1)上设有盖板(3),所述盖板(3)上开设有通孔(9);所述沉积基板(4)与所述转动轴(5)固定连接,所述沉积基板(4)与所述盖板(3)相对设置,所述筒体(1)与所述进气通道(7)连通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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