[发明专利]消除栽培基质颗粒表面散射及水分影响的光谱检测方法在审

专利信息
申请号: 201811470293.4 申请日: 2018-11-27
公开(公告)号: CN109612964A 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 汤修映;鲁兵;刘霓虹;杨可菲;李惠玲;李苇;胡灿 申请(专利权)人: 中国农业大学
主分类号: G01N21/359 分类号: G01N21/359;G01N15/00
代理公司: 北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙) 11392 代理人: 谢建玲;郝亮
地址: 100193 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种消除栽培基质颗粒表面散射及水分影响的光谱检测方法,包括如下步骤:S1、栽培基质颗粒快速干燥去除所含的水分;S2、栽培基质颗粒快速粉碎;S3、利用目数≥50目的标准筛网对粉碎栽培基质颗粒进行筛选;S4、筛选后的栽培基质颗粒光谱数据采集;S5、采用理化实验测定栽培基质颗粒待测化学成分理化值;S6、以3:1的比例将样品集划分为校正集和验证集;S7、对校正集光谱数据进行预处理,并利用校正集建立栽培基质颗粒实测理化值与预处理光谱数据之间的关系模型,再利用验证集数据检验模型的预测性能。该模型用于栽培基质颗粒化学成分的快速检测,并能有效地消除栽培基质颗粒表面散射和水分对光谱预测结果的影响。
搜索关键词: 栽培基质 颗粒表面 散射 光谱检测 水分影响 校正集 预处理 光谱数据采集 校正集光谱 验证集数据 预处理光谱 筛选 标准筛网 关系模型 光谱预测 颗粒化学 快速干燥 快速检测 理化实验 预测性能 验证集 有效地 再利用 目数 去除 实测 检验
【主权项】:
1.一种消除栽培基质颗粒表面散射及水分影响的光谱检测方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、干燥:采用高温快速加热装置加热干燥栽培基质颗粒,加热过程中不断搅拌栽培基质颗粒使其受热均匀,最终加热栽培基质颗粒至恒重状态,去除栽培基质颗粒中的水分;S2、粉碎:采用高速粉碎装置快速粉碎栽培基质颗粒,使栽培基质颗粒的粒径尺寸和颗粒之间的空隙减小;S3、过筛处理:采用筛网对粉碎后的栽培基质颗粒进行筛选,筛选得到粒径均匀的栽培基质颗粒样本;S4、采用光谱采集系统获取栽培基质颗粒样本的光谱数据;S5、对S4中获取光谱数据后的栽培基质颗粒样本采用国家或行业标准中规定的化学分析方法,通过理化实验测定待测化学成分含量的理化值;S6、将S4中获取的栽培基质颗粒样本光谱数据与S5中测定的化学成分含量结果相对应,形成样品数据集合,并采用浓度梯度法以3:1的比例将样品数据集合划分为校正集和验证集;S7、对校正集的光谱数据采用数学预处理算法进行光谱数据预处理,建立预处理光谱数据与S5中测定校正集样品化学成分含量理化值之间的光谱预测模型,再利用验证集数据检验光谱预测模型的预测性能。
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