[发明专利]离子源和离子注入装置在审
| 申请号： | 201811472876.0 | 申请日： | 2018-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN110137063A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 山元徹朗 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 周善来;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供离子源和离子注入装置，改善了带状束的束输送效率。离子源(1)包括：等离子体生成容器(11)，在端部形成有束引出口(H)；以及遮挡构件(13)，封闭束引出口(H)，在遮挡构件(13)上，沿相同方向形成有三个以上的长孔(13a)，上述长孔(13a)在通过遮挡构件(13)引出的带状束的长度方向上长，各长孔(13a)的长度尺寸如下设置：配置在中央的长孔(13a)的长度尺寸比配置在端部的长孔(13a)的长度尺寸短。 | ||
| 搜索关键词： | 长孔 遮挡构件 离子源 离子注入装置 引出口 等离子体生成容器 输送效率 尺寸比 配置 封闭 | ||
【主权项】：
1.一种离子源，其特征在于，所述离子源包括：等离子体生成容器，在端部形成有束引出口；以及遮挡构件，封闭所述束引出口，在所述遮挡构件上，沿相同方向形成有三个以上的长孔，所述长孔在通过所述遮挡构件引出的带状束的长度方向上长，各长孔的长度尺寸如下设置：配置在中央的所述长孔的长度尺寸比配置在端部的所述长孔的长度尺寸短。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日新离子机器株式会社，未经日新离子机器株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811472876.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种医疗用X射线管
- 下一篇：离子注入装置及离子注入装置的控制方法
