[发明专利]一种去除硅片边缘氧化膜的装置及方法

摘要

本发明公开了一种去除硅片边缘氧化膜的装置及方法。该装置采用卧式结构，由上下两部分组成去边圆盘，通过卡槽固定；内部中空，填充吸水海绵吸收HF溶液；去边圆盘有凹槽，凹槽处有用于渗出HF溶液的通孔，凹槽外缠有摩擦布吸附HF溶液，通过去边圆盘外凹槽上缠有摩擦布与硅片边缘接触，使SiO2与HF发生化学反应，达到去除硅片边缘SiO2背封膜的目的。本发明的优点在于既不需要手工贴膜，又没有蒸汽去除的失败风险，还可以有效解决边缘不整齐，去除不彻底等问题，因此具有节省腐蚀原材料，风险低，操作简便，且安全可靠等特点。并配合补液系统的设计，实现了对腐蚀液的精准控制。从而提高了产品合格率，进而提高了生产效率。

主权项

1.一种去除硅片边缘氧化膜的装置，其特征在于，所述装置为卧式结构，包括由上下两部分组成的去边圆盘（1）和用于放置硅片（9）的真空吸盘（10），上圆盘（1.1）的圆周设有凸台，下圆盘（1.2）的圆周设有凹槽，上圆盘（1.1）的凸台嵌入到下圆盘（1.2）的凹槽里，构成整体的去边圆盘（1）；下圆盘（1.2）的圆周另外还设有凹槽，该凹槽深处弧面上分布着一圈渗液通孔（7），组装后的去边圆盘（1）中部形成整体凹槽（3），整体凹槽（3）外部缠有摩擦布（4），缠有摩擦布（4）的整体凹槽（3）与放置在真空吸盘（10）上的硅片（9）在同一水平面上；上圆盘（1.1）的上表面中心位置留有补液孔（2），该补液孔内插管道与补给用HF封闭容器连接；下圆盘（1.2）的底部封闭，组装后的去边圆盘（1）内部为中空结构，中空部分填充吸水海绵（8），用来吸收与SiO2膜进行反应的HF溶液；去边圆盘（1）粘接固定在固定架（5）上，固定架（5）与旋转轴（6）连接固定，旋转轴（6）连接步进电机；所述的真空吸盘（10）通过固定在底部的移动旋转轴（11）与控制系统连接。