[发明专利]一种调节晶圆刻蚀均匀性的装置和方法在审
| 申请号： | 201811473146.2 | 申请日： | 2018-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN111276381A | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 刘小波;李雪冬;邱勇;李娜;侯永刚;胡冬冬;陈璐;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/24;H01J37/305 |
| 代理公司： | 北京得信知识产权代理有限公司 11511 | 代理人： | 孟海娟;崔建丽 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种调节晶圆刻蚀均匀性的装置和方法。该调节晶圆刻蚀均匀性的装置包括多套滤波器，各所述滤波器的一端与多温区静电吸盘的各加热电极对应相连接，另一端接腔体外壳，其中，所述滤波器为带阻滤波器，包括并联的电感和可调电容。通过设定不同温区所对应滤波器的阻抗和阻带频率，调节对应温区的晶圆刻蚀速率，从而实现刻蚀均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调节 刻蚀 均匀 装置 方法 | ||
【主权项】：
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