[发明专利]具有掠过栅极的集成电路图像传感器单元有效
申请号: | 201811473257.3 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN110010629B | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | F·罗伊 | 申请(专利权)人: | 意法半导体(克洛尔2)公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及具有掠过栅极的集成电路图像传感器单元。一种成像单元,包括耦合在光敏电荷节点和中间节点之间的掠过栅极晶体管,以及耦合在中间节点和感测节点之间的传输栅极晶体管。掠过栅极晶体管包括垂直栅极电极结构,该垂直栅极电极结构由延伸到衬底中的第一电容性深沟槽隔离和延伸到衬底中的第二电容性深沟槽隔离形成。掠过栅极晶体管的沟道位于第一和第二电容性深沟槽隔离之间。每个电容性深沟槽隔离由沟槽形成,该沟槽衬有绝缘衬垫并填充有导电或半导电材料。 | ||
搜索关键词: | 具有 掠过 栅极 集成 电路 图像传感器 单元 | ||
【主权项】:
1.一种成像单元,包括:掠过栅极晶体管,耦合在光敏电荷节点和中间节点之间;和传输栅极晶体管,耦合在所述中间节点和感测节点之间;其中所述掠过栅极晶体管包括垂直栅极电极结构,所述垂直栅极电极结构包括:延伸到衬底中的第一电容性深沟槽隔离;和延伸到所述衬底中的第二电容性深沟槽隔离;其中所述掠过栅极晶体管的沟道位于所述第一电容性深沟槽隔离和所述第二电容性深沟槽隔离之间;并且其中每个电容性深沟槽隔离包括衬有绝缘衬垫并填充有导电或半导电材料的沟槽。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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