[发明专利]阻抗测试结构在审

专利信息
申请号: 201811479250.2 申请日: 2018-12-05
公开(公告)号: CN109633302A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 周江姣 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G01R31/00 分类号: G01R31/00;G01R31/28;G01R27/02
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出一种阻抗测试结构,包括:一第一基板,所述第一基板包括一第一电极与一第二电极,所述第一电极与所述第二电极彼此绝缘分离;及一第二基板,所述第二基板具有一电性器件,所述电性器件包括一第三电极与一第四电极,所述第三电极与所述第四电极彼此电连接;其中,所述第一电极通过一导电元件连接至所述第三电极,所述第二电极通过所述导电元件连接至所述第四电极。
搜索关键词: 第二电极 第三电极 第一电极 电极 导电元件 第二基板 第一基板 电性器件 阻抗测试 电连接 绝缘
【主权项】:
1.一种阻抗测试结构,其特征在于,包括:一第一基板,所述第一基板包括一第一电极与一第二电极,所述第一电极与所述第二电极彼此绝缘分离;及一第二基板,所述第二基板具有一电性器件,所述电性器件包括一第三电极与一第四电极,所述第三电极与所述第四电极彼此电连接;其中,所述第一电极通过一导电元件连接至所述第三电极,所述第二电极通过所述导电元件连接至所述第四电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811479250.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top