[发明专利]光罩及光罩的制作方法在审
| 申请号： | 201811480473.0 | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN109634052A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 吴川 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 吴平 |
| 地址： | 518101 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光罩，包括：半透膜层；遮光层，设置在所述半透膜层上，露出部分所述半透膜层以作为沟道形成区；所述沟道形成区中的半透膜层包括弧形膜层和非弧形膜层，所述弧形膜层的厚度大于所述非弧形膜层的厚度。本发明中，弧形膜层的厚度大于非弧形膜层的厚度，增大了弧形膜层的透光量，有效地降低了弧形膜层出现失焦的几率，提升工艺良率。 | ||
| 搜索关键词： | 膜层 半透膜层 非弧形 光罩 沟道形成区 透光量 有效地 遮光层 良率 失焦 制作 | ||
【主权项】：
1.一种光罩，其特征在于，包括：半透膜层；遮光层，设置在所述半透膜层上，露出部分所述半透膜层以作为沟道形成区；所述沟道形成区中的半透膜层包括弧形膜层和非弧形膜层，所述弧形膜层的厚度大于所述非弧形膜层的厚度。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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