[发明专利]自修复紫外线吸收聚合物涂层在审
| 申请号： | 201811483641.1 | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN109929291A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | M·阿卜戴尔哈米德;戴放;A·M·戴利;M·蔡 | 申请（专利权）人： | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 |
| 主分类号： | C09D4/02 | 分类号： | C09D4/02;C09D5/32;C09D7/63;C08J7/04;C08L77/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 韦欣华;杨思捷 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供自修复紫外线保护性聚合物涂层的系统和方法包括通过引发紫外线吸收基质前体和紫外线引发剂的聚合所形成的聚合物基质和设置在所述聚合物基质内的自修复部分。聚合物基质包括其中的数个活性位点。自修复部分包括可流动的自修复前体和自修复引发剂。自修复引发剂配置成使用阳离子开环过程使自修复前体聚合。 | ||
| 搜索关键词： | 自修复 聚合物基质 引发剂 紫外线吸收聚合物 紫外线引发剂 聚合物涂层 阳离子开环 紫外线吸收 活性位点 基质前体 前体聚合 涂层提供 可流动 紫外线 前体 聚合 配置 | ||
【主权项】：
1.一种方法，其包括：制备包括基质前体部分和自修复部分的二元混合物，所述自修复部分包括可流动的自修复前体和自修复引发剂，所述基质前体部分包括紫外线吸收基质前体和紫外线引发剂；通过引发紫外线吸收基质前体和紫外线引发剂的聚合形成自修复聚合物涂层，由此形成聚合物基质，所述自修复部分基本上设置在整个所述聚合物基质中，所述聚合物基质包括其中的数个活性位点；以及用所述自修复聚合物涂层保护紫外线敏感性基底的外表面。
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