[发明专利]钝化接触N型太阳电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201811484034.7 申请日: 2018-12-06
公开(公告)号: CN109686816B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 刘大伟;宋志成;倪玉凤;魏凯峰;王举亮 申请(专利权)人: 国家电投集团西安太阳能电力有限公司;黄河水电西宁太阳能电力有限公司;国家电投集团黄河上游水电开发有限责任公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 代理人: 郭桂峰
地址: 710100 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种钝化接触N型太阳电池的制备方法,包括:对基体进行硼扩散,以在所述基体的正面形成发射结,且硼扩散后,所述基体的背面形成有背面硼扩散层,所述发射结上形成有硼硅玻璃层;去除所述背面硼扩散层;在所述基体的背面形成背面氧化层;在所述背面氧化层的与所述基体相背的一侧形成背面多晶硅,同时,所述硼硅玻璃层的与所述基体相背的一侧也绕镀有正面多晶硅;对所述背面多晶硅进行掺杂,得到掺杂层;依次分别去除所述正面多晶硅与所述硼硅玻璃层,且所述正面多晶硅与所述硼硅玻璃层分别利用不同的溶液去除;本发明可降低去除正面多晶硅时对硼硅玻璃层下发射极造成的损伤,起到保护作用,有利于提高太阳电池发电性能。
搜索关键词: 钝化 接触 太阳电池 制备 方法
【主权项】:
1.一种钝化接触N型太阳电池的制备方法,其特征在于,包括:对基体进行硼扩散,以在所述基体的正面形成发射结,且硼扩散后,所述基体的背面形成有背面硼扩散层,所述发射结上形成有硼硅玻璃层;去除所述背面硼扩散层;在所述基体的背面形成背面氧化层;在所述背面氧化层的与所述基体相背的一侧形成背面多晶硅,同时,所述硼硅玻璃层的与所述基体相背的一侧也绕镀有正面多晶硅;对所述背面多晶硅进行掺杂,得到掺杂层;依次分别去除所述正面多晶硅与所述硼硅玻璃层,且所述正面多晶硅与所述硼硅玻璃层分别利用不同的溶液去除;在所述掺杂层的与所述背面氧化层相背的一侧形成背面钝化层,在所述发射结的与所述基体相背的一侧形成正面钝化层;在所述背面钝化层的与所述掺杂层相背的一侧形成背面金属电极,在所述正面钝化层的与所述发射极相背的一侧形成正面金属电极,所述背面金属电极与所述掺杂层欧姆连接,所述正面金属电极与所述发射极欧姆连接。
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