[发明专利]双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备在审
| 申请号： | 201811488244.3 | 申请日： | 2018-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN111286705A | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 钟洪伟;刘奎;陈年庚;赵娟;刘子毓 | 申请（专利权）人： | 北京华业阳光新能源有限公司;北京启迪清洁能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨;李林 |
| 地址： | 100080 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，是在第一镀膜室、第二镀膜室以及室外装卸工位中都布置有拨盘、轨道以及集热管小车，第一镀膜室布置有直流磁控溅射靶，第二镀膜室同时布置有直流磁控溅射靶与中频磁控溅射靶，在第一镀膜室与第二镀膜室之间设置真空通道，第一镀膜室与室外装卸工位之间设置连接通道。使用的时候，第一镀膜室一方面作为过渡室使用，用于在第二镀膜室以及室外装卸工位之间交换集热管小车，另一方面可以完成金属红外反射涂层镀膜，而第二镀膜室可以一直保持在真空状态，并完成选择性吸收涂层镀膜以及减反层镀膜，如此周转使用，能够减小设备规模的前提下，尽量提高生产效率与镀膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 双室三工位多靶共溅 磁控溅射 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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