[发明专利]一种高度均一的微锥阵列结构的制备方法在审
| 申请号： | 201811489271.2 | 申请日： | 2018-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN109365995A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 李垚;任飞飞;豆书亮;赵九蓬;张伟岩;李龙 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | B23K26/0622 | 分类号： | B23K26/0622;B23K26/082;B23K26/046;B23K26/70 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 岳泉清 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种高度均一的微锥阵列结构的制备方法，本发明涉及微锥阵列结构的制备方法领域。本发明要解决现有方法制备的微锥阵列结构存在的均匀性差，制备工艺繁琐，无法大面积加工，材料普适性差的问题。方法：一、将激光焦点中心聚焦在样品上表面；二、设置激光单脉冲能量；三、设置平面网格路径，然后采用激光扫描样品上表面；四、利用去离子水超声清洗处理后的样品。本发明可以通过调节激光脉冲能量、脉冲速率和振镜扫描参数，实现微锥的尺寸及形貌结构的精确调谐，有利于功能微结构的最优设计。本发明用于制备高度均一的微锥阵列结构。 | ||
| 搜索关键词： | 微锥 阵列结构 制备 均一 上表面 激光单脉冲能量 激光脉冲能量 调谐 功能微结构 超声清洗 激光焦点 激光扫描 均匀性差 去离子水 设置平面 网格路径 形貌结构 振镜扫描 制备工艺 最优设计 普适性 速率和 脉冲 聚焦 加工 | ||
【主权项】：
1.一种高度均一的微锥阵列结构的制备方法，其特征在于该方法具体按以下步骤进行：一、通过三维移动台调整基板高度，定位样品，将激光焦点中心聚焦在样品上表面；二、设置激光单脉冲能量；三、利用三维移动台设置平面网格路径，然后采用激光扫描样品上表面；四、利用去离子水超声清洗处理后的样品，完成所述高度均一的微锥阵列结构的制备方法。
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