[发明专利]双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜方法有效
| 申请号： | 201811489707.8 | 申请日： | 2018-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN111286706B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 钟洪伟;刘奎;陈年庚;赵娟;刘子毓 | 申请（专利权）人： | 北京华业阳光新能源有限公司;北京启迪清洁能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨;李林 |
| 地址： | 100080 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜方法，具有第一镀膜室、第二镀膜室、室外装卸工位以及集热管小车，所述第一镀膜室的真空腔体内设有若干根直流磁控溅射靶，所述第二镀膜室设有数根直流磁控溅射靶与数根中频磁控溅射靶；通过在第一镀膜室完成红外反射涂层镀膜工艺，在第二镀膜室完成选择性吸收涂层镀膜工艺，周而复始地高效完成镀膜工作；在工作过程中，第二镀膜室始终保持真空，而第一镀膜室在破真空时使用干燥空气来填充，有效避免了湿空气、污染物影响镀膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 双室三工位多靶共溅 磁控溅射 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
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