[发明专利]基于同轴双圆锥透镜的暗场共焦亚表面检测装置和方法在审
| 申请号： | 201811495808.6 | 申请日： | 2018-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN109470710A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 刘俭;刘婧;王宇航;刘辰光;谭久彬 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人： | 李冉 |
| 地址： | 150000 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于同轴双圆锥透镜的暗场共焦亚表面检测装置和方法，点光源发出的光经准直镜形成平行光，平行光依次经扩束器、圆锥透镜一和圆锥透镜二形成环形光，环形光经分光棱镜和物镜汇聚至待测样品；待测样品发出的反射光和散射光依次经过物镜和分光棱镜，入射至探测互补光阑，反射光被探测互补光阑遮挡，散射光依次经过探测互补光阑、收集透镜和探测针孔，入射至光电探测器。本发明采用扩束器以及一组对称放置的同轴圆锥透镜实现占空比可调的环形光照明，结合探测互补光阑实现暗场共焦，解决了普通共焦显微技术检测亚表面损伤信噪比低、遮挡式环形光发生器占空比不可调、能量损失大的问题，适用于亚表面无损检测。 | ||
| 搜索关键词： | 光阑 圆锥透镜 环形光 亚表面 暗场 共焦 同轴 双圆锥透镜 探测 待测样品 分光棱镜 检测装置 反射光 扩束器 平行光 散射光 入射 物镜 共焦显微技术 光电探测器 亚表面损伤 占空比可调 对称放置 结合探测 能量损失 收集透镜 探测针孔 无损检测 发生器 点光源 信噪比 占空比 遮挡式 准直镜 遮挡 光照 汇聚 检测 | ||
【主权项】：
1.基于同轴双圆锥透镜的暗场共焦亚表面检测装置，其特征在于，包括：照明系统和探测系统；所述照明系统包括点光源(1)、准直镜(2)、扩束器(3)、圆锥透镜一(4)、圆锥透镜二(5)、分光棱镜(7)和物镜(8)；所述点光源(1)发出的光经所述准直镜(2)后形成平行光，所述平行光依次经所述扩束器(3)、所述圆锥透镜一(4)和所述圆锥透镜二(5)形成环形光，所述环形光依次经所述分光棱镜(7)和所述物镜(8)聚焦至待测样品(9)上；所述探测系统包括所述物镜(8)、所述分光棱镜(7)、探测互补光阑(10)、收集透镜(11)、探测针孔(12)和光电探测器(13)；所述待测样品(9)发出的反射光和散射光经所述物镜(8)透射至所述分光棱镜(7)后，入射至所述探测互补光阑(10)，所述探测互补光阑(10)遮挡所述反射光，且所述散射光依次经所述收集透镜(11)和所述探测针孔(12)入射至所述光电探测器(13)；所述照明系统和所述探测系统共用所述分光棱镜(7)和所述物镜(8)。
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