[发明专利]一种具有高磁性能的YDMO薄膜及其制备方法

摘要

本发明提供一种具有高磁性能的YDMO薄膜及其制备方法，化学式为Y1‑xDyxMnO3，其中，x＝0.1≤y≤0.5，六方结构，空间群为P63cm。本发明在YMnO3的A位掺杂稀土离子Dy，得到Y1‑xDyxMnO3薄膜，晶胞参数图显示掺杂后晶胞参数a和c发生较大变化，拉曼散射光谱图显示，Dy3+掺杂进入YMnO3晶格替代Y3+，因为Y3+半径为0.89nm，Dy3+半径为0.91nm，在YMnO3中Y3+处于双锥六面体的中间层，中间层的改变会引起双锥六面体顶点的倾斜，改变薄膜内部自旋结构对称性，最终证明掺杂后薄膜内部结构发生畸变，自旋对称性改变，最终使磁性能提高，得到高铁磁性薄膜材料。

主权项

1.一种具有高磁性能的YDMO薄膜，其特征在于，化学式为Y1‑xDyxMnO3，其中，x＝0.1≤y≤0.5，六方结构，空间群为P63cm。