[发明专利]光学层叠体有效
| 申请号： | 201811502063.1 | 申请日： | 2018-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN109975909B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 安井未央;片宝蓝;西冈宏司;黑田益功;长谷川敦史 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社;大成精细化工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14;G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;唐峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供具有优异的耐弯曲性的光学层叠体。本发明的解决手段为一种光学层叠体，其具有基材、和被层叠在该基材的至少一个面上的第1硬涂层，在基材的一个面上具有第1硬涂层的层叠体的相对于拉伸断裂前的层叠体而言的拉伸断裂伸长率为5～25％。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层叠 | ||
【主权项】：
1.光学层叠体，其是具有基材、和被层叠在所述基材的至少一个面上的第1硬涂层的光学层叠体，在基材的一个面上具有第1硬涂层的层叠体的相对于拉伸断裂前的层叠体而言的拉伸断裂伸长率为5～25％。
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