[发明专利]一种精密铸造用氧化锆坩埚及其热处理方法有效
| 申请号： | 201811504720.6 | 申请日： | 2018-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN109516802B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 薛志岗;王帅;庞佳敏;董国强 | 申请（专利权）人： | 江苏省陶瓷研究所有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/482 | 分类号： | C04B35/482;C04B35/66;C22C16/00;C04B35/622;C04B35/64 |
| 代理公司： | 无锡市天宇知识产权代理事务所(普通合伙) 32208 | 代理人： | 蒋何栋 |
| 地址： | 214200 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种精密铸造用氧化锆坩埚，其特征在于，包括以下质量百分比的组分：10%～25%的150μm电熔单斜锆粉，10%～25%的150μm电熔稳定锆粉，5%～15%的75μm电熔单斜锆粉，5%～15%的3μm电熔单斜锆粉，5%～15%的0.8μm单斜锆粉，15%～25%的1.0μm化学镁稳定锆，3%～8%的0.8μm化学钇稳定锆和1%～4%的氧化镁。同时，本发明还公开了上述精密铸造用氧化锆坩埚的热处理方法。本发明对不同粒径氧化锆的稳定相和单斜相进行配比设计，对烧成后的坩埚采用特定工艺进行热处理，并对稳定剂采用复合设计，得到热膨胀系数较低、具有良好抗热震性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 精密 铸造 氧化锆 坩埚 及其 热处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种精密铸造用氧化锆坩埚，其特征在于，包括以下质量百分比的组分：10%～25%的150μm电熔单斜锆粉，10%～25%的150μm电熔稳定锆粉，5%～15%的75μm电熔单斜锆粉，5%～15%的3μm电熔单斜锆粉，5%～15%的0.8μm单斜锆粉，15%～25%的1.0μm化学镁稳定锆，3%～8%的0.8μm化学钇稳定锆和1%～4%的氧化镁。
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