[发明专利]一种基于激光与等离子体的复合抛光方法有效
申请号: | 201811504867.5 | 申请日: | 2018-12-10 |
公开(公告)号: | CN109366256B | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 刘锋;程佳瑞;箭旗琳;潘国顺;张臣 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B23K26/00;B24B41/00 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 张火春 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于激光与等离子体的复合抛光方法,首先将待加工工件固定在抛光系统工作台上,然后通过激光抛光装置使激光光束汇聚至待加工工件表面形成激光束焦斑然后通过等离子体抛光装置产生常压等离子体束冲击待加工工件表面形成等离子体冲击区域;调节激光光束指向与等离子体冲击方向使激光束焦斑与等离子体冲击区域重叠,对待加工工件表面进行复合抛光;通过多轴移动平台,移动激光束焦斑‑等离子体冲击复合区域完成待加工工件整个表面的抛光。本发明利用等离子体在超快激光加工过程中对材料表面的改性和复合刻蚀作用,提高表面加工质量,解决超快激光表面加工质量不高的瓶颈问题,实现材料表面高质量、高效精细抛光。 | ||
搜索关键词: | 等离子体冲击 待加工工件 等离子体 复合抛光 焦斑 表面加工 表面形成 超快激光 激光光束 激光束 激光 常压等离子体 等离子体抛光 加工工件表面 移动激光束 多轴移动 复合区域 激光抛光 精细抛光 刻蚀作用 抛光系统 瓶颈问题 区域重叠 整个表面 抛光 改性 指向 复合 汇聚 | ||
【主权项】:
1.一种基于激光与等离子体的复合抛光方法,该复合抛光方法采用的设备包括抛光系统工作台、激光抛光装置、等离子体抛光装置和多轴移动平台,激光抛光装置和等离子体抛光装置均安装在多轴移动平台,其特征在于,所述复合抛光方法主要包括如下步骤:步骤一:将待加工工件固定在抛光系统工作台上,激光抛光装置和等离子体抛光装置置于待加工工件上方;步骤二:通过激光抛光装置产生抛光激光,使激光光束汇聚至待加工工件表面形成激光束焦斑;步骤三:等离子体抛光装置产生常压等离子体束冲击待加工工件表面,形成等离子体冲击区域;步骤四:调节激光光束指向与等离子体冲击方向使激光束焦斑与等离子体冲击区域重叠,形成激光束焦斑‑等离子体冲击复合区域,对待加工工件表面进行复合抛光;步骤五:通过多轴移动平台,改变激光束焦斑‑等离子体冲击复合区域与待加工工件的相对位置,完成待加工工件整个表面的复合抛光过程。
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