[发明专利]一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统有效
申请号: | 201811505144.7 | 申请日: | 2018-12-10 |
公开(公告)号: | CN111286712B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 严鹏 | 申请(专利权)人: | 苏州能讯高能半导体有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/34 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 王献茹 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统,涉及镀膜设备领域,该靶材溅镀设备包括溅镀工艺区,溅镀工艺区内设置有靶材固定件和载片盘,靶材固定件设置在载片盘的上方,靶材溅镀设备还包括靶材放置区,靶材放置区设置有至少一个用于承载靶材的承载块,承载块可活动地从靶材放置区移动至溅镀工艺区以便将靶材定位于靶材固定件上。相较于现有技术,本发明提供的一种靶材溅镀设备,在进行多靶材溅镀工艺时无需使用多腔室进行溅镀、占地面积小、结构简单、辅助系统部件较少,同时更换靶材方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 靶材溅镀 设备 以及 系统 | ||
【主权项】:
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