[发明专利]一种氯碱工业用氧阴极离子膜电解槽在审
申请号: | 201811507436.4 | 申请日: | 2018-12-11 |
公开(公告)号: | CN111304682A | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 郭立德;刘秀明;乔霄锋;许东全;张丽蕊;杨航;宗子超 | 申请(专利权)人: | 蓝星(北京)化工机械有限公司 |
主分类号: | C25B1/46 | 分类号: | C25B1/46;C25B9/08;C25B11/02 |
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地址: | 100176*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种氯碱工业用氧阴极离子膜电解槽,包括方管、阳极室、碱液室和氧气室,所述方管形成电解槽的外围框架,包括碱液室侧的方管和阳极侧的方管,所述阳极室包括阳极,所述氧气室包括氧阴极载体和导电丝网,所述电解槽的上部设置有进气管,下部设置有出气管,在所述阳极和氧阴极载体之间还设置有离子膜,其特征在于,还包括密封固定装置,所述密封固定装置将碱液室和氧气室密封固定于电解槽上。本发明的氯碱工业用氧阴极离子膜电解槽,不但电解槽密封效果更好,使用寿命长,且设备的结构更简单合理,电解槽的槽电压也更低。 | ||
搜索关键词: | 一种 工业 阴极 离子 电解槽 | ||
【主权项】:
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