[发明专利]基于会聚偏光干涉实现的旋光度测量方法在审

专利信息
申请号: 201811509027.8 申请日: 2018-12-11
公开(公告)号: CN109520935A 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 徐启峰 申请(专利权)人: 龙岩学院
主分类号: G01N21/23 分类号: G01N21/23
代理公司: 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 代理人: 王怡敏
地址: 364012 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种基于会聚偏光干涉实现的旋光度测量方法,属于工业测量技术领域。会聚偏光干涉是通过单轴晶体的会聚光束形成的,光轴与单轴晶体的晶面垂直,偏振光束射入晶体时发生双折射现象,分解为有位相差的o光和e光,带有不同位相差的偏振光经过检偏器后,具有相同振动方向和振动频率的光线之间产生干涉并形成会聚偏光干涉图形,图形中的暗十字根据透明物质旋光度的大小旋转,通过四象限探测器对暗十字定位,实现对物质旋光度的测量,暗十字旋转的方向即为旋光方向。优点在于:无运动器件、测量模式与光功率的大小无关、自动确定旋光方向、分辨率高,实用性强。
搜索关键词: 偏光干涉 会聚 旋光度测量 单轴晶体 位相差 旋光度 旋光 偏振光 四象限探测器 测量模式 工业测量 会聚光束 偏振光束 十字定位 透明物质 振动方向 振动频率 自动确定 光功率 检偏器 双折射 无运动 分辨率 光轴 晶面 射入 测量 垂直 分解 干涉
【主权项】:
1.一种基于会聚偏光干涉实现的旋光度测量方法,其特征在于:会聚偏光干涉是通过单轴晶体的会聚光束形成的,光轴与单轴晶体的晶面垂直,偏振光束射入晶体时发生双折射现象,分解为有位相差的o光和e光,带有不同位相差的偏振光经过检偏器后,具有相同振动方向和振动频率的光线之间产生干涉并形成会聚偏光干涉图形,图形中的暗十字根据透明物质旋光度的大小旋转,通过四象限探测器对暗十字定位,实现对物质旋光度的测量,暗十字旋转的方向即为旋光方向。
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