[发明专利]一种横向元器件制样研磨方法有效
申请号: | 201811509557.2 | 申请日: | 2018-12-11 |
公开(公告)号: | CN109580305B | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 廉鹏飞;刘相全;孔泽斌;罗宇华;杨亮亮;刘伟鑫;楼建设;徐导进 | 申请(专利权)人: | 上海精密计量测试研究所;上海航天信息研究所 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 |
代理公司: | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人: | 余岢 |
地址: | 201109 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种横向元器件制样研磨的方法,该方法步骤如下:步骤一、根据元器件的高度首先确定样品高度,并在制样前于模具内侧标记第一高度,以及第二高度,确保元器件位于样品高度上的中心;步骤二、按要求配置环氧树脂,并将环氧树脂加至模具内的第一高度处;步骤三、待环氧树脂固化后,将元器件横向置于其表面的正中心处;步骤四、再次将环氧树脂加至第二高度,此时元器件位于样品高度上的中心;步骤五、固化后完成制样,新方法与传统制样方法相比,样品体积会有效减小;步骤六、粗磨;步骤七、精磨:使用细砂纸进行精磨,直至形貌达到最佳观测效果;步骤八、抛光:用抛光液及相匹配的抛光布抛光,直至形貌达到最佳观测效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 横向 元器件 研磨 方法 | ||
【主权项】:
1.一种横向元器件制样研磨的方法,其特征在于,包括步骤如下:步骤一、根据元器件的高度首先确定样品高度,并在制样前于模具内侧标记第一高度即元器件底面高度,以及第二高度即样品的上表面高度,确保元器件位于样品高度上的中心;步骤二、按要求配置环氧树脂,并将环氧树脂加至模具内的第一高度处;步骤三、待环氧树脂固化后,将元器件横向置于其表面的正中心处;步骤四、再次将环氧树脂加至第二高度,此时元器件位于样品高度上中心;步骤五、固化后完成制样;步骤六、粗磨:步骤七、精磨:步骤八、抛光。
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