[发明专利]基于晶体双折射实现的电流测量方法在审

专利信息
申请号: 201811509754.4 申请日: 2018-12-11
公开(公告)号: CN109521249A 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 徐启峰 申请(专利权)人: 龙岩学院
主分类号: G01R15/24 分类号: G01R15/24;G01R15/18
代理公司: 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 代理人: 王怡敏
地址: 364012 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种基于晶体双折射实现的电流测量方法,属于电力系统电流测量技术领域。光源发出的光束经过偏振片起偏后产生线偏振光,进入磁光薄膜将待测磁场大小转换为线偏振光偏振面的旋转,出射的线偏振光经扩束镜扩束后,通过半透半反镜实现光的透射和反射,通过凸透镜聚焦进入检偏谐振腔,检偏谐振腔内的双折射晶体将切向偏振的o光和径向偏振的e光的焦点在空间上分开,平面镜位于e光的焦点处,使检偏谐振腔内只存在稳定的径向偏振光模式,并从平面镜输出具有暗纹的光斑;光斑经过凸透镜和半透半反镜后,进入CCD图像传感器成像。通过CCD图像传感器检测暗纹的旋转角度,实现了对法拉第磁致旋光角的线性测量,且测量模式与光功率无关。
搜索关键词: 线偏振光 谐振腔 检偏 凸透镜 半透半反镜 光斑 电流测量 平面镜 双折射 暗纹 偏振 测量技术领域 电力系统电流 径向偏振光 双折射晶体 透射和反射 测量模式 磁光薄膜 磁致旋光 大小转换 径向偏振 线性测量 法拉第 光功率 焦点处 扩束镜 偏振片 出射 扩束 切向 成像 磁场 光源 聚焦 输出 焦点 检测
【主权项】:
1.一种基于晶体双折射实现的电流测量方法,其特征在于:光源(1)位于偏振片(2)的一侧,偏振片(2)的另一侧设置磁光薄膜(3),扩束镜(4)置于磁光薄膜(3)和半透半反镜(5)之间,半透半反镜(5)安装在CCD图像传感器(11)的上方;凸透镜(6)位于平面镜(7)和半透半反镜(5)之间,双折射晶体(8)位于平面镜(7)、光阑(9)和球面镜(10)组成的检偏谐振腔内,通光方向与双折射晶体(8)的c轴平行;光源(1)发出的光束经过偏振片(2)起偏后产生线偏振光,进入磁光薄膜(3)将待测磁场大小转换为线偏振光偏振面的旋转,线偏振光偏振面的旋转角度正比于磁场H的大小;出射的线偏振光经扩束镜(4)扩束后,通过半透半反镜(5)实现光的透射和反射,通过凸透镜(6)聚焦进入检偏谐振腔,检偏谐振腔内的双折射晶体(8)将切向偏振的o光和径向偏振的e光的焦点在空间上分开,平面镜(7)位于e光的焦点处,使检偏谐振腔内只存在稳定的径向偏振光模式,并从平面镜(7)输出具有暗纹的光斑;光斑经过凸透镜(6)和半透半反镜(5)后,进入CCD图像传感器(11)成像。
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