[发明专利]增强型氮化镓晶体管元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201811511426.8 申请日: 2018-12-11
公开(公告)号: CN111223924B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 蔡镕泽;叶伯淳;徐建华;凃伯璁 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/15;H01L21/335
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;祁建国
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种增强型氮化镓晶体管元件及其制造方法,增强型氮化镓晶体管元件包含氮化镓层、量子阱结构、栅极、源极、漏极及第一位障层。量子阱结构设置于氮化镓层的上表面。栅极设置于量子阱结构上。源极设置于氮化镓层的上表面的一端。漏极设置于氮化镓层的上表面的另一端。第一位障层设置于氮化镓层的上表面并延伸至量子阱结构的侧表面。本发明晶体管元件在电压施加于栅极使晶体管元件导通时,量子阱结构能提供局限能阶给载子传输,使晶体管元件能提升效能。
搜索关键词: 增强 氮化 晶体管 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
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