[发明专利]金属层器件辅助图形的生成方法有效
申请号: | 201811515649.1 | 申请日: | 2018-12-12 |
公开(公告)号: | CN109614705B | 公开(公告)日: | 2023-06-16 |
发明(设计)人: | 邓国贵;陈燕鹏;王丹;于世瑞 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G06F30/392 | 分类号: | G06F30/392 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 栾美洁 |
地址: | 201315 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种金属层器件辅助图形的生成方法,包括获取含金属层、通孔和所有避让层的原始设计版图;通过版图逻辑运算选出若干种线宽的金属线并筛选出与旁边不同电位的金属线之间的距离大于冗余金属到金属线之间的最小距离的两倍与最小金属线宽之和的外扩边,将外扩边分别往外扩大第一尺寸和第二尺寸,分别得到第一多边形和第二多边形,第一尺寸小于第二尺寸;去除第一多边形与第二多边形重叠的部分和进入禁入区域的部分,获得第一金属层器件临时辅助图形;对第一金属层器件临时辅助图形进行后处理,形成第一金属层器件辅助图形。本发明能在较小的金属线宽附近生成跟它本身尺寸类似或相同的辅助图形,从而减小图形密度不同导致的金属刻蚀后线宽差异。 | ||
搜索关键词: | 金属 器件 辅助 图形 生成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种金属层器件辅助图形的生成方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1,获取原始设计版图,所述原始设计版图包含金属层、通孔和所有避让层;步骤S2,通过版图逻辑运算选出若干种线宽的金属线,并筛选出外扩边,所述外扩边与旁边不同电位的金属线之间的距离大于冗余金属到金属线之间的最小距离的两倍与最小金属线宽之和,将所述外扩边分别往外扩大第一尺寸和第二尺寸,分别得到第一多边形和第二多边形,所述第一尺寸的值小于第二尺寸的值;步骤S3,通过逻辑运算去除第一多边形与第二多边形重叠的部分以及进入禁入区域的部分,获得第一金属层器件临时辅助图形;其中,所述第一尺寸的值决定了所述第一金属层器件临时辅助图形边界与金属线之间的最小距离,所述第二尺寸与第一尺寸的差值为所述第一金属层器件临时辅助图形的最小宽度,所述第一尺寸的值和第二尺寸的值均取决于技术节点和光刻工艺的能力。
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