[发明专利]一种红外低折射率光学薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201811516954.2 | 申请日： | 2018-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN109459807A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 蒲云体;马平;王刚;卢忠文;吕亮;张明骁;邱服民;乔曌;彭东旭 | 申请（专利权）人： | 成都精密光学工程研究中心 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B1/11 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 阳佑虹 |
| 地址： | 610041 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种红外低折射率光学薄膜及其制备方法，属于光学薄膜领域。所述红外低折射率光学薄膜通过有效的制备方法并采用稀土族元素氟化物YF3制备得到，通过该方法制备得到的红外低折射率光学薄膜具有无定形结构的特征，较之单晶、多晶结构的薄膜具有更低的散射损耗；折射率系数在1.5μm为1.482与现有的中红外激光低折射率光学薄膜的折射率系数相当，具备同等的设计自由度；但是其表面粗糙度为1.477nm和聚集密度0.904都优于现有的中红外光学薄膜的表面粗糙度2nm左右和聚集密度0.8左右，降低了薄膜的损耗，提高了薄膜致密性；其在水吸收附近的2.9μm和6.1μm的透过率为60％和70％相比于常规工艺制备的中红外光学薄膜透过率高20％左右，改善了薄膜的吸潮情况。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 制备 低折射率 薄膜 红外光学薄膜 表面粗糙度 折射率系数 透过率 薄膜致密性 设计自由度 无定形结构 稀土族元素 中红外激光 常规工艺 多晶结构 散射损耗 氟化物 水吸收 单晶 吸潮 | ||
【主权项】：
1.一种红外低折射率光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜包括膜层(1)和基层(2)，所述膜层(1)附着于基层(2)上并形成层叠结构，所述膜层(1)的组成材料为稀土族元素氟化物YF3，且该薄膜具有无定形结构。
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