[发明专利]改性碳纳米管阵列、碳纳米管纤维及其制备方法和应用在审
申请号: | 201811517526.1 | 申请日: | 2018-12-12 |
公开(公告)号: | CN109775689A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 邓飞 | 申请(专利权)人: | 深圳烯湾科技有限公司 |
主分类号: | C01B32/16 | 分类号: | C01B32/16;C01B32/168;D01F9/12 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 潘霞 |
地址: | 518172 广东省深圳市龙*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种改性碳纳米管阵列、碳纳米管纤维及其制备方法和应用。该改性碳纳米管阵列的制备方法包括如下步骤:在第一基底上形成碳纳米管阵列;在第二基底上形成高分子聚合物,高分子聚合物为2‑恶唑啉类单体与含氮杂环类单体的共聚物,2‑恶唑啉类单体选自2‑异丙烯基‑2‑恶唑啉及4,4'‑二甲基‑2‑乙烯基‑2‑恶唑啉中的至少一种,含氮杂环类单体为N‑乙烯基吡咯烷酮;及在保护性气体氛围下,对第一基底及第二基底进行紫外光照射处理,以使高分子聚合物和碳纳米管阵列进行接枝反应,得到改性碳纳米管阵列。上述制备方法制备的改性碳纳米管阵列能够用于制备具有较优抗形变能力的碳纳米管纤维。 | ||
搜索关键词: | 改性碳纳米管 恶唑 基底 制备 高分子聚合物 碳纳米管纤维 制备方法和应用 碳纳米管阵列 含氮杂环 乙烯基吡咯烷酮 保护性气体 抗形变能力 紫外光照射 接枝反应 异丙烯基 二甲基 共聚物 乙烯基 | ||
【主权项】:
1.一种改性碳纳米管阵列的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:在第一基底上形成碳纳米管阵列;在第二基底上形成高分子聚合物,所述高分子聚合物为2‑恶唑啉类单体与含氮杂环类单体的共聚物,所述2‑恶唑啉类单体选自2‑异丙烯基‑2‑恶唑啉及4,4'‑二甲基‑2‑乙烯基‑2‑恶唑啉中的至少一种,所述含氮杂环类单体为N‑乙烯基吡咯烷酮;及在保护性气体氛围下,对形成有所述碳纳米管阵列的所述第一基底及形成有所述高分子聚合物的所述第二基底进行紫外光照射处理,以使所述高分子聚合物和所述碳纳米管阵列进行接枝反应,得到改性碳纳米管阵列。
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