[发明专利]一种石墨烯网栅薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种石墨烯网栅薄膜的制备方法，该方法的主要思路是在石墨烯薄膜制备过程中，将旋涂有PMMA保护层的石墨烯薄膜吸附于具有光刻胶图案的石英板上，之后去除光刻胶图案及其表面的石墨烯薄膜得到石墨烯网栅薄膜。该方法制备的石墨烯网栅薄膜为准单层石墨烯结构，在网栅交织区域厚度均匀统一，保持了与未图形化制备的石墨烯薄膜相同的属性，同时解决石墨烯导电薄膜不易制备成矩阵结构的问题，简单易行。

主权项

1.一种石墨烯网栅薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤一、通过化学气相沉积法在铜箔表面生长石墨烯薄膜，之后将石墨烯/铜箔置于匀胶机中，以1500‑3200 r/min的速率旋涂50~100s，将PMMA丙酮溶液旋涂在石墨烯/铜箔上表面；将其置于加热台上，加热至60~100°C 并保温20~40min；步骤二、将铜箔漂浮于0.8~1.2mol/L的氯化铁溶液上，铜箔下表面与氯化铁溶液接触进行腐蚀，腐蚀时间6~12h；将漂浮于氯化铁溶液的上的石墨烯薄膜捞起置于去离子水上漂洗，重复三遍；步骤三、将石英平板置于去离子水中，超声清洗5min；之后将其置于匀胶机中，以2000~4000r/min的速率旋涂10~30s，将光刻胶旋涂在石英平板上表面；将旋涂光刻胶的石英平板置于加热台上，加热至60~90°C 并保温8~15min；步骤四、使用网栅掩膜版对石英平板上表面的光刻胶进行曝光，曝光时间10~40s；之后对光刻胶进行显影，显影时间为30~60s；将显影后的石英平板置于去离子水中，超声清洗7min，重复三遍；步骤五、用石英板的上表面将步骤一中漂浮于去离子水上的石墨烯薄膜捞起，使其吸附于光刻图案上，将石英板竖立沥干20~40min；将吸附有石墨烯薄膜的石英板置于加热台，加热至90~130°C并保温15~30min；步骤六、将石英板置于丙酮中，水浴加热至35~55°C并保温20~40min，去除光刻胶图案及其表面的石墨烯薄膜；将石英板从丙酮溶液中捞出，置于去离子水中漂洗，重复三遍，氮气吹干。