[发明专利]粒子射线治疗系统以及粒子射线治疗系统的设备更新方法有效
| 申请号： | 201811520082.7 | 申请日： | 2018-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN110215620B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 青野英浩 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G21K5/04 | 分类号： | G21K5/04;A61N5/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;金成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够高效地更新设备的粒子射线治疗系统以及粒子射线治疗系统的设备更新方法。粒子射线治疗系统(1)具备：产生带电粒子束(Bm)的带电粒子束产生装置(2)；使带电粒子束向预定的照射对象照射的第一照射装置(4(1))；从带电粒子束产生装置(2)向第一照射装置(4(1))输送带电粒子束的第一射束输送装置(3(1))；以及设于第一射束输送装置(3(1))的第一真空阀(33(1))。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 射线 治疗 系统 以及 设备 更新 方法 | ||
【主权项】：
1.一种粒子射线治疗系统，其特征在于，具备：带电粒子束产生装置，其产生带电粒子束；第一照射装置，其使上述带电粒子束向预定的照射对象照射；第一射束输送装置，其从上述带电粒子束产生装置向上述第一照射装置输送上述带电粒子束；以及第一真空阀，其设于上述第一射束输送装置。
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