[发明专利]层状UiO-66/g-C3N4/Ag复合材料的制备方法及应用在审
| 申请号： | 201811521847.9 | 申请日： | 2018-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN109590022A | 公开（公告）日： | 2019-04-09 |
| 发明（设计）人： | 冯胜;王润柏;刘曙光;孙佳佳 | 申请（专利权）人： | 常州大学 |
| 主分类号： | B01J31/22 | 分类号： | B01J31/22;B01J35/00;B01J35/02;B01J37/34;C02F1/30;C02F101/30 |
| 代理公司： | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 | 代理人： | 任晓岚 |
| 地址： | 213164 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于纳米复合材料技术领域，涉及一种层状UiO‑66/g‑C3N4/Ag复合材料的制备方法和应用。本发明先对制备得到g‑C3N4进行质子化处理，将质子化g‑C3N4和UiO‑66复合，得UiO‑66/g‑C3N4，采用光沉积技术将Ag成功负载到了UiO‑66/g‑C3N4上形成了一种新型的三元复合材料UiO‑66/g‑C3N4/Ag，并且使用扫描电子显微镜(SEM)等来证明。UiO‑66/g‑C3N4/Ag复合材料是高效光催化材料，层状复合材料在吸附，光催化，储能等不同领域中起着重要作用。本发明将为MOF，g‑C3N4和贵金属半导体结合成层状纳米结构提供重要基准，以改进材料的光催化性能，从而更好地降解有机污染物。 | ||
| 搜索关键词： | 复合材料 质子化 制备 降解有机污染物 扫描电子显微镜 制备方法和应用 层状复合材料 层状纳米结构 纳米复合材料 三元复合材料 光催化材料 光催化性能 贵金属 改进材料 光催化 储能 吸附 沉积 半导体 复合 应用 成功 | ||
【主权项】：
1.层状UiO‑66/g‑C3N4/Ag复合材料的制备方法，其特征在于，将g‑C3N4通过质子化后和UiO‑66制备得UiO‑66/g‑C3N4，并运用光沉积法负载Ag颗粒得到UiO‑66/g‑C3N4/Ag(X％)，所述X％是g‑C3N4占UiO‑66的质量百分比，其中，X％＝10％，15％或20％。
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