[发明专利]一种新型工艺烧嘴系统

摘要

一种新型工艺烧嘴系统，包括工艺烧嘴，所述的工艺烧嘴包括中间氧通道、外环氧通道以及位于中间氧通道和外环氧通道之间的水煤浆通道，在在外环氧和水煤浆通道之间设置有冷却水通道；工艺烧嘴前端还连接有混合雾化器，所述的混合雾化器包括混合室和预混室，所述的混合室由两侧的CO₂通道和位于CO₂通道之间的水煤浆通道组成，相邻通道之间的隔板均为Y型，预混室位于各通道后端，预混室的后端开设排放孔，所述的排放孔与工艺烧嘴的进料口连通。该烧嘴能使CO2与氧气接触比表面积更大，气化反应更加迅速，从而极大地解决了为燃烧区和局部氧气过剩的问题。

主权项

1.一种新型工艺烧嘴系统，包括工艺烧嘴(1)，所述的工艺烧嘴(1)包括中间氧通道(2)、外环氧通道(3)以及位于中间氧通道(2)和外环氧通道(3)之间的水煤浆通道(4)，其特征在于，在外环氧通道(3)和水煤浆通道(4)之间设置有冷却水通道(5)；工艺烧嘴(1)前端还连接有混合雾化器(6)，所述的混合雾化器(6)包括混合室(7)和预混室(8)，所述的混合室(7)由两侧的CO2通道(9)和位于CO2通道(9)之间的水煤浆通道(4)组成，相邻通道之间的隔板(10)均为Y型，预混室(8)位于各通道后端，预混室(8)的后端开设排放孔(11)，所述的排放孔(11)与工艺烧嘴(1)的进料口连通。