[发明专利]基于光谱角度填图的纹影法远场测量焦斑自动重构方法在审
申请号: | 201811528861.1 | 申请日: | 2018-12-13 |
公开(公告)号: | CN109724690A | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 王拯洲;李刚;谭萌;王江枫;王力;王伟 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01J1/00 | 分类号: | G01J1/00;G01J1/04 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 胡乐 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出一种基于光谱角度填图的纹影法远场测量焦斑自动重构方法,能够提高远场焦斑的重构精度。该方法包括以下步骤:首先,使用最小二乘法来拟合旁斑图像的纹影小球中心;其次,对主瓣图像和旁瓣图像分别进行裁剪;再将主瓣裁减图像中扣除一个和纹影小球大小的圆后的图像cutzb’和旁瓣裁减图像cutpb分别转换成两个列向量;然后,计算两个向量之间的光谱角度填图(SAM)值,当两个向量相似性达到最大值时,则cutzb’图像的左上角位置为最佳匹配点;最后,以最佳匹配点为参考,使用图像cutzb'和旁斑裁减图像cutpb对焦斑进行重构,并在最终的图像拼接过程中使用采用加权平均法对拼接边界进行融合。 | ||
搜索关键词: | 图像 纹影 重构 光谱角度填图 焦斑 最佳匹配点 远场测量 裁减 旁瓣 小球 主瓣 加权平均法 向量相似性 最小二乘法 左上角位置 图像拼接 列向量 裁剪 对焦 拟合 拼接 向量 远场 扣除 参考 融合 转换 | ||
【主权项】:
1.基于光谱角度填图的纹影法远场测量焦斑自动重构方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1)使用最小二乘法来拟合旁斑图像的纹影小球中心,误差精度小于1个像素;步骤2)将采集的主斑图像orgzb和旁斑图像orgpb裁剪为同样大小的裁剪图像,分别记为主斑裁减图像cutzb和旁斑裁减图像cutpb;将主斑裁减图像cutzb中扣除一个与纹影小球尺寸相当的圆,得到图像cutzb’;再将该图像cutzb’和旁斑裁减图像cutpb分别转换成两个列向量Vz和Vp,并计算这两个列向量的SAM值;步骤3)计算两个列向量之间的光谱角度填图(SAM)值,当两个向量相似性达到最大值时,则cutzb’图像的左上角位置为最佳匹配点;步骤4)以最佳匹配点为参考,使用图像cutzb'和旁斑裁减图像cutpb对焦斑进行重构,并在最终的图像拼接过程中使用采用加权平均法对拼接边界进行融合。
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