[发明专利]一种图像处理方法、生成式对抗网络、电子设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 201811529114.X 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN110782397B 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 张毅伟;赵元;沈海峰 申请(专利权)人: 北京嘀嘀无限科技发展有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06N3/04
代理公司: 北京超成律师事务所 11646 代理人: 邓超
地址: 100193 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及图像处理方法、生成式对抗网络、电子设备及存储介质。该方法包括:通过初始特征提取层对待处理图像进行初始特征提取处理,获得初始特征;通过每个下采样特征提取层对输入到自身的输入特征进行浅层特征、深度特征以及下采样特征提取处理,获得浅层特征、深度特征以及下采样特征;通过每个上采样特征提取层对输入到自身的输入特征进行上采样特征提取处理,获得上采样特征;通过残差特征提取层对第M个上采样特征提取层输出的上采样特征进行残差特征提取处理,获得残差特征;将残差特征和待处理图像相加得到目标图像。该方法能够降低图像增强过程中的处理复杂度,得到高清晰度的图像。
搜索关键词: 一种 图像 处理 方法 生成 对抗 网络 电子设备 存储 介质
【主权项】:
1.一种图像处理方法,其特征在于,应用于生成式对抗网络GAN中,所述GAN包括生成网络,所述生成网络包括初始特征提取层、依次连接的M个下采样特征提取层、依次连接的M个上采样特征提取层和残差特征提取层,其中,M为大于等于1的整数;所述方法包括:/n通过所述初始特征提取层对待处理图像进行第一处理,获得初始特征;/n通过每个所述下采样特征提取层对输入到自身的输入特征进行第二处理,获得浅层特征、深度特征以及下采样特征,其中,与所述初始特征提取层连接的第一个所述下采样特征提取层的输入特征为所述初始特征,第二个至第M个所述下采样特征提取层的输入特征为自身的前一个所述下采样特征提取层输出的所述下采样特征;/n通过每个所述上采样特征提取层对输入到自身的输入特征进行第三处理,获得上采样特征,其中,与第M个所述下采样特征提取层连接的第一个所述上采样特征提取层的输入特征包括:第一直连接特征和第一跨连接特征,所述第一直连接特征为第M个所述下采样特征提取层输出的下采样特征和深度特征的第一串联特征,所述第一跨连接特征为第M个所述下采样特征提取层输出的浅层特征以及第M-1个所述下采样特征提取层输出的深度特征;第j个所述上采样特征提取层的输入特征包括:第j直连接特征和第j跨连接特征,所述第j直连接特征为自身的前一个所述上采样特征提取层输出的上采样特征,所述第j跨连接特征为第M-j+1个所述下采样特征提取层输出的浅层特征以及第M-j个所述下采样特征提取层输出的深度特征;第M个所述上采样特征提取层的输入特征包括:第M直连接特征和第M跨连接特征,所述第M直连接特征为第M-1个所述上采样特征提取层输出的上采样特征,所述第M跨连接特征为第一个所述下采样特征提取层输出的浅层特征,其中,j依次取2至M-1;/n通过所述残差特征提取层对第M个所述上采样特征提取层输出的上采样特征进行第四处理,获得残差特征;/n将所述残差特征和所述待处理图像相加得到目标图像。/n
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