[发明专利]一种多晶炉内载气导流装置在审
| 申请号： | 201811532147.X | 申请日： | 2018-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN109321972A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 张小东;韩晓敏;常传波 | 申请（专利权）人： | 扬州荣德新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人： | 陈栋智 |
| 地址： | 225000 江苏省扬州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了硅片制造领域内的一种多晶炉内载气导流装置，包括圆形盘片，圆形盘片的中心开设有通气孔，圆形盘片上绕通气孔外周开设有多个通气时形成旋转气流的导流通道，通过在导气筒出口处，增加导流装置，通过对导流装置的设计，引导载气流动，从而改变载气流动形式，使得载气不直吹至表面，缓冲气流强度，减少涡流产生，同时更好带走杂质；并且有效地增加了气体和液体硅的接触面积，中心区域过冷度降低，使得长晶界面更为平整，从而减少了硅晶体中位错的产生，可用于多晶炉中。 | ||
| 搜索关键词： | 载气 导流装置 圆形盘片 多晶炉 通气孔 导流通道 硅片制造 缓冲气流 流动形式 涡流产生 旋转气流 中心区域 导气筒 硅晶体 过冷度 液体硅 有效地 可用 外周 直吹 中位 通气 平整 流动 | ||
【主权项】：
1.一种多晶炉内载气导流装置，其特征在于，包括圆形盘片，所述圆形盘片的中心开设有通气孔，所述圆形盘片上绕通气孔外周开设有多个通气时形成旋转气流的导流通道。
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