[发明专利]一种基于钛网的氧化钛薄膜电极的制备方法在审
申请号: | 201811533172.X | 申请日: | 2018-12-14 |
公开(公告)号: | CN109675539A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 尹荔松;周克省;王向科;蓝键;马思琪;涂驰周 | 申请(专利权)人: | 五邑大学 |
主分类号: | B01J21/06 | 分类号: | B01J21/06;B01J37/34;B01J37/02 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王新爱 |
地址: | 529000*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于钛网的氧化钛薄膜电极的制备方法,包括如下步骤:(1)将钛网切割成7.5cm×2.8cm,用砂纸打磨,然后用蒸馏水冲洗,丙酮作超声波清洗20min;(2)用乙醇、蒸馏水各清洗钛网20min,吹干钛网;(3)预先用Ar对Ti靶进行预溅射;(4)采用高真空直流磁控溅射方法在钛网表面生成薄膜;制备条件为:纯Ti为靶,钛网作为基片,基片温度280℃,靶基距为8.0cm;工作气体为氩气,反应气体为氧气,流量比15:20;真空度为5.0×10-4Pa,工作气压为1.0Pa,溅射功率为100W,溅射时间为60min;(5)把钛网和薄膜恒温退火1小时,得到氧化钛薄膜电极。 | ||
搜索关键词: | 钛网 氧化钛薄膜电极 制备 薄膜 蒸馏水 退火 直流磁控溅射 超声波清洗 蒸馏水冲洗 反应气体 工作气体 工作气压 溅射功率 砂纸打磨 制备条件 氩气 靶基距 高真空 流量比 预溅射 乙醇 丙酮 吹干 溅射 氧气 切割 清洗 | ||
【主权项】:
1.一种基于钛网的氧化钛薄膜电极的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将钛网切割成7.5cm×2.8cm,用砂纸打磨,打磨之后用蒸馏水冲洗,再用丙酮作超声波清洗20min;(2)然后用乙醇、蒸馏水各清洗钛网20min,最后将钛网吹干;(3)以纯Ti为靶,预先用Ar对Ti靶进行预溅射,以除去靶表面的氧化物;(4)把钛网置于高真空磁控溅射镀膜设备内采用高真空直流磁控溅射方法在钛网表面生成薄膜;高真空直流磁控溅射方法的制备条件为:纯Ti为靶,钛网作为基片,基片温度控制在280℃,靶基距为8.0cm;工作气体为氩气,反应气体为氧气,流量比15:20;真空度为5.0×10-4Pa,工作气压为1.0Pa,溅射功率为100W,溅射时间为60min;(5)最后把钛网和薄膜在400‑900℃恒温退火1小时,得到氧化钛薄膜电极。
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