[发明专利]半色调掩膜版湿法灰化制作方法

摘要

本发明实施例提供一种半色调掩膜版湿法灰化制作方法，包括：提供母板，母板包括基板及自基板一侧表面依次形成的半透层、透光阻隔层、遮光层和光阻层；在光阻层形成完全感光区、不完全感光区及非感光区；去除已感光的光阻材料形成完全显影区和不完全显影区；依次蚀除完全显影区内侧的遮光层、透光阻隔层和半透层形成透光图形区；采用灰化液与光阻层反应直至不完全显影区内侧的剩余光阻层完全去除形成灰化区；蚀除灰化区内侧的遮光层形成半透光图形区；去除光阻层。本发明实施例在显影、蚀刻形成透光图形区和不完全显影区后采用灰化液与光阻层反应形成灰化区，再采用蚀刻液蚀除灰化区内侧的遮光层形成半透光图形区，不需使用灰化炉，制作成本低。

主权项

1.一种半色调掩膜版湿法灰化制作方法，其特征在于，包括以下步骤：提供母板，所述母板包括基板以及自所述基板一侧表面由内至外依次形成的半透层、透光阻隔层、遮光层以及光阻层；对所述母板进行曝光，通过调整控制不同区域的曝光能量，在所述光阻层分别形成完全感光区、不完全感光区及非感光区；采用显影液去除完全感光区和不完全感光区内已感光的光阻材料而分别形成完全显影区和不完全显影区；采用蚀刻液依次蚀除所述完全显影区内侧的遮光层、透光阻隔层和半透层形成透光图形区；采用灰化液与所述光阻层反应直至所述不完全显影区内侧的剩余光阻层通过反应完全去除形成灰化区；采用蚀刻液蚀除所述灰化区内侧的遮光层形成半透光图形区；去除残留的光阻层，获得带有透光图形区和半透光图形区的半色调掩膜版成品。