[发明专利]纳米剑麻基SFMC(A/B)n层层自组装阻燃复合材料及其制备方法在审
申请号: | 201811538427.1 | 申请日: | 2018-12-16 |
公开(公告)号: | CN109734966A | 公开(公告)日: | 2019-05-10 |
发明(设计)人: | 刘婵娟;牛红超;黄孝华;韦春;徐旭 | 申请(专利权)人: | 桂林理工大学 |
主分类号: | C08L1/04 | 分类号: | C08L1/04;C08L83/08;C08L25/18;C08L79/02;C08L101/00;C08K5/521;C08K3/32 |
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地址: | 541004 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本发明公开了一种纳米剑麻基SFMC(A/B)n层层自组装阻燃复合材料及其制备方法。该纳米剑麻基SFMC(A/B)n层层自组装阻燃复合材料是由基材和修饰层组成,所述基材为剑麻纤维素微晶,所述修饰层是聚阳离子电解质和聚阴离子电解质,聚阳离子电解质和聚阴离子电解质通过静电层层自组装交替沉积于剑麻纤维素微晶表面。本发明所用原料成本低廉,且制备方法简单易行,为制备高性能纳米剑麻基阻燃复合材料提供了可行性方案,应用前景广阔。 | ||
搜索关键词: | 剑麻 阻燃复合材料 层层自组装 制备 聚阳离子电解质 聚阴离子电解质 纤维素 修饰层 基材 微晶 应用前景广阔 制备高性能 交替沉积 原料成本 静电 | ||
【主权项】:
1.一种纳米剑麻基SFMC(A/B)n层层自组装阻燃复合材料,其特征在于该阻燃复合材料由基材和修饰层组成,所述基材为剑麻纤维素微晶,所述修饰层是聚阳离子电解质和聚阴离子电解质,聚阳离子电解质和聚阴离子电解质通过静电层层自组装交替沉积于剑麻纤维素微晶表面。
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