[发明专利]离子交换膜、离子交换膜的制造方法和电解槽有效
| 申请号： | 201811540760.6 | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN109989072B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 冈本浩司;高桥和也 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社 |
| 主分类号： | C25B13/08 | 分类号： | C25B13/08;C25B9/19 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李洋;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供离子交换膜、离子交换膜的制造方法和电解槽，其在供至电解时能够降低电解电压。本发明的离子交换膜具有包含具有离子交换基的含氟系聚合物的膜主体、和配置在上述膜主体的至少一个面上的被覆层，其中，上述被覆层包含无机物颗粒和粘结剂，相对于上述被覆层中上述无机物颗粒和粘结剂的总质量，上述粘结剂的质量比大于0.3且为0.9以下，上述被覆层的表面粗糙度为1.20μm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 离子交换 制造 方法 电解槽 | ||
【主权项】：
1.一种离子交换膜，其具有：包含具有离子交换基的含氟系聚合物的膜主体；和配置在所述膜主体的至少一个面上的被覆层，其中，所述被覆层包含无机物颗粒和粘结剂，相对于所述被覆层中所述无机物颗粒和粘结剂的总质量，所述粘结剂的质量比大于0.3且为0.9以下，所述被覆层的表面粗糙度为1.20μm以上。
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