[发明专利]基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质

摘要

本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质，能够在适当的定时除去附着在排气装置的副产物，提高装置的运转率。基板处理装置具备：主控制部，其进行控制使得执行包含多个步骤的工艺方案，对基板实施预定的处理，取得执行工艺方案的过程中的装置数据；存储部，其存储所取得的装置数据，其中，主控制部取得构成工艺方案的各步骤中的预先确定的特定步骤中的装置数据，计算所取得的装置数据的平均值，将所计算出的平均值与在上次执行工艺方案时计算出的特定步骤中的装置数据的平均值进行比较，在计算出的平均值连续预先设定的次数地显示出预先定义的倾向的情况下，产生警报。

主权项

1.一种基板处理装置，包含：主控制部，其进行控制使得执行包含多个步骤的工艺方案，对基板实施预定的处理并取得上述工艺方案的执行过程中的装置数据；存储部，其存储所取得的装置数据，其特征在于，上述主控制部取得构成上述工艺方案的各步骤中的预先确定的特定步骤中的装置数据，计算所取得的装置数据的平均值，并将所计算出的平均值与在上次执行工艺方案时计算出的上述特定步骤中的装置数据的平均值进行比较，在计算出的平均值连续预先设定的次数地显示出预先定义的倾向的情况下，产生警报。