[发明专利]质谱系统中的原位调节在审
| 申请号： | 201811548024.5 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN109950122A | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | H·F·普雷斯特;C·W·鲁斯 | 申请（专利权）人： | 安捷伦科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/00 | 分类号： | H01J49/00;H01J49/04;G01N30/72;G01N27/62 |
| 代理公司： | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在质谱仪或气相色谱/质谱仪系统中，添加一种或多种不同的调节气体以调节或改变离子源的一个或多个表面或区域。该一种或多种调节气体可被直接添加到该离子源中。当该质谱仪不分析样品时，可以离线添加该调节气体。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 质谱仪 气相色谱/质谱仪 分析样品 原位调节 直接添加 质谱系统 离线 | ||
【主权项】：
1.一种用于操作质谱(MS)系统的方法，该方法包括：使第一调节气体流入该MS系统的离子源而不将样品引入该离子源；使该第一调节气体电离，其中该离子源由该第一调节气体调节；在使该第一调节气体流动之后，使第二调节气体流入该离子源而不将样品引入该离子源；使该第二调节气体电离，其中该离子源由该第二调节气体调节；并且在使该第二调节气体流动之后，通过将样品引入该经调节的离子源并从该样品收集分析数据来分析该样品，其中：该第一调节气体具有包含按体积计至少90％的氢气的组成；并且该第二调节气体具有包含按体积计0％至小于90％的氢气的组成。
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