[发明专利]腔室进气结构以及反应腔室

摘要

本发明实施例公开了一种腔室进气结构以及反应腔室，其中的腔室进气结构包括：设置在腔室上盖上的连接件装置和设置在腔室内的喷气盘；连接件装置设置有第一混合腔，喷气盘设置有第二混合腔；多种不反应气体在第一混合腔中进行混合，混合气体通过第一混合气体通道、第二混合气体通道进入腔室内；反应气体通过第一反应气体通道、第二反应气体通道并经过第二混合腔进入腔室内。本发明的腔室进气结构以及反应腔室，能够避免发生反应的气体与其他反应气体在进入腔室前进行混合；将不直接反应的两种其他反应气体提前混合均匀，发生反应的气体通过匀流板和喷气板进行两次匀流，达到提高反应气体的在硅片上方混合和扩散均匀性的目的。

主权项

1.一种腔室进气结构，其特征在于，包括：设置在腔室上盖上的连接件装置和设置在腔室内的喷气盘；所述连接件装置设置有第一混合腔、与所述第一混合腔相连通的第一混合气体通道、第一反应气体通道；所述喷气盘设置有第二混合腔、与所述第二混合腔相连通的第二反应气体通道、第二混合气体通道；所述第一混合气体通道与所述第一反应气体通道相互隔离，所述第二混合气体通道和所述第二反应气体通道相互隔离；多种不反应气体在所述第一混合腔中进行混合，混合气体通过所述第一混合气体通道、所述第二混合气体通道进入腔室内；反应气体通过所述第一反应气体通道、所述第二反应气体通道并经过所述第二混合腔进入腔室内，与所述混合气体进行反应；其中，所述第一混合气体通道及所述第一反应气体通道关于所述喷气盘的轴线中心对称设置。