[发明专利]清洗装置及清洗方法有效
| 申请号： | 201811553821.2 | 申请日： | 2018-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN109570177B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 史进 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00;H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 刘伟;张博 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种清洗装置及清洗方法，属于半导体技术领域。其中，清洗装置，包括多个清洗腔室以及将半导体元件在所述多个清洗腔室之间传送的传送机构，每个所述清洗腔室内设置有清洗槽，每个清洗腔室包括传送机构运动区域和清洗槽所在区域，所述清洗装置还包括：位于所述清洗腔室顶部、对应所述传送机构运动区域的第一风扇；位于所述清洗腔室顶部、对应所述清洗槽所在区域的第二风扇。通过本发明的技术方案，能够提高半导体元件的清洗效果，得到更加洁净的半导体元件。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洗装置，包括多个清洗腔室以及将半导体元件在所述多个清洗腔室之间传送的传送机构，每个所述清洗腔室内设置有清洗槽，每个清洗腔室包括传送机构运动区域和清洗槽所在区域，其特征在于，所述清洗装置还包括：位于所述清洗腔室顶部、对应所述传送机构运动区域的第一风扇；位于所述清洗腔室顶部、对应所述清洗槽所在区域的第二风扇。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司，未经西安奕斯伟硅片技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811553821.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：玻璃屏除粉尘装置
- 下一篇：一种有机废气污染物收集处理系统
