[发明专利]一种双面曝光的对准装置、方法及设备有效
| 申请号： | 201811557789.5 | 申请日： | 2018-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN109613803B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 傅志伟 | 申请（专利权）人： | 江苏影速集成电路装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 张勇 |
| 地址： | 221000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双面曝光的对准装置、方法及设备，属于印刷线路板技术领域。所述装置包括：包括定位标记、打标标记和位置获取装置，在每一件待曝光样品曝光之前都通过位置获取装置获取定位标记的位置信息，从而获知定位标记的在实际生产中的位置变化量，由于打标标记和定位标记的相对位置不变，所以即获知到打标标记在实际生产中的位置变化量，根据该位置变化量实时调整待曝光样品的另一面曝光图形的位置，解决了现有技术无法实时对打标标记进行实时定位而引起的曝光对位不准的问题，提高了待曝光样品双面对准的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 曝光 对准 装置 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种双面曝光的对准装置，其特征在于，所述装置包括：定位标记、打标标记和位置获取装置；所述定位标记用于实时确定所述打标标记的位置，从而根据所述打标标记的位置确定待曝光样品的曝光图形位置；所述打标标记用于对待曝光样品进行打标；所述位置获取装置用于实时获取所述定位标记的位置信息。
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