[发明专利]一种双异质结和复合钝化层的IMPATT二极管及其制作方法有效
申请号: | 201811558022.4 | 申请日: | 2018-12-19 |
公开(公告)号: | CN109786484B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 杨林安;李秀圣;马晓华;郝跃 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/0304 | 分类号: | H01L31/0304;H01L31/0336;H01L31/0352;H01L31/107 |
代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 张捷 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种双异质结和复合钝化层的IMPATT二极管,包括:衬底层;外延层,位于衬底层上层;欧姆接触层,位于外延层中间的上层;第一漂移区,位于欧姆接触层中间的上层;第二漂移区,位于第一漂移区上层;雪崩区,位于第二漂移区上层;欧姆接触电极,位于欧姆接触层两侧和欧姆接触层两侧的上层;第一钝化层,位于欧姆接触层上层和欧姆接触电极上层,且位于第一漂移区两侧、第二漂移区两侧和雪崩区两侧;第二钝化层,位于第一钝化层上层;肖特基接触电极,位于雪崩区上层和第二钝化层上层。本发明提出的二极管,提高了雪崩区载流子电离率,雪崩效应被限制在雪崩区,减小了雪崩区宽度,改善了功率输出能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 双异质结 复合 钝化 impatt 二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种双异质结和复合钝化层的IMPATT二极管,其特征在于,包括:衬底层(1);外延层(2),位于所述衬底层(1)上层;欧姆接触层(3),位于所述外延层(2)中间的上层;第一漂移区(4),位于所述欧姆接触层(3)中间的上层;第二漂移区(5),位于所述第一漂移区(4)上层;雪崩区(6),位于所述第二漂移区(5)上层;欧姆接触电极(7),位于所述欧姆接触层(3)两侧和所述欧姆接触层(3)两侧的上层;第一钝化层(8),位于所述欧姆接触层(3)上层和所述欧姆接触电极(7)上层,且位于所述第一漂移区(4)两侧、所述第二漂移区(5)两侧和所述雪崩区(6)两侧;第二钝化层(9),位于所述第一钝化层(8)上层;肖特基接触电极(10),位于所述第二钝化层(9)上层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811558022.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的