[发明专利]一种双腔室膜电容去离子装置有效
| 申请号： | 201811558299.7 | 申请日： | 2018-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN109692575B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 刘勇;袁勋 | 申请（专利权）人： | 青岛科技大学 |
| 主分类号： | B01D61/48 | 分类号： | B01D61/48 |
| 代理公司： | 北京金硕果知识产权代理事务所(普通合伙) 11259 | 代理人： | 李丹凤 |
| 地址： | 266042 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属于膜电容去离子装置技术领域，公开了一种双腔室膜电容去离子装置。该膜电容去离子装置为双腔室结构，第一腔室和第二腔室在阴/阳离子交换膜的上、下两端分别设置水流通道隔膜，使原水在双腔室的水流通道隔膜中呈蛇形流动。该膜去离子装置传质阻力小、脱盐能耗低、脱盐效果较佳。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双腔室膜 电容 离子 装置 | ||
【主权项】：
1.一种双腔室膜电容去离子装置，其特征在于：所述去离子装置为双腔室结构，第一腔室和第二腔室在阴/阳离子交换膜的上、下两端分别设置水流通道隔膜，使原水在双腔室的水流通道隔膜中呈蛇形流动。
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