[发明专利]水基清洗剂及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201811563003.0 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN109439463A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 孙健;黄霖 | 申请（专利权）人： | 深圳市众望丽华实业有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/835 | 分类号： | C11D1/835;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/60;C11D11/00 |
| 代理公司： | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 | 代理人： | 李红梅 |
| 地址： | 518048 广东省深圳市福*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种水基清洗剂及其制备方法和应用。所述水基清洗剂包括如下重量百分比的组分：非离子表面活性剂1‑5％、含氟表面活性剂0.05‑0.2％、醇醚类溶剂15‑25％、碱性助洗剂0.5‑5％、水余量。所述水基清洗剂对电子线路板上焊接后残留有优异的清洗能力，对其他污染物、焊接残留物也良好的去除能力，对敏感金属和脆弱功能型材料有良好的兼容性和保护作用，有效保证了电子线路板的性能稳定；而且所述水基清洗剂以水为主要介质，环保，无闪点、安全，分散体系稳定。所述水基清洗剂制备方法能够有效保证制备的水基清洗剂分散体系稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 水基清洗剂 制备方法和应用 电子线路板 分散体系 制备 焊接 非离子表面活性剂 含氟表面活性剂 醇醚类溶剂 功能型材料 碱性助洗剂 重量百分比 敏感金属 清洗能力 兼容性 水余量 闪点 去除 污染物 残留 保证 环保 安全 | ||
【主权项】：
1.一种水基清洗剂，其特征在于，包括如下重量百分比的组分：![]()
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