[发明专利]双过滤片光检测设备及与其相关的方法有效

专利信息
申请号: 201811565071.0 申请日: 2018-12-20
公开(公告)号: CN109959642B 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 蔡秀雨 申请(专利权)人: 伊鲁米那股份有限公司
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 王红英;杨明钊
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请涉及但不限于双过滤片光检测设备及与其相关的方法。提供了光检测设备和相应的方法。该设备包括反应结构以包含反应溶液和至少一个反应位点,该反应位点在用反应溶液处理之后响应于入射激发光而产生光发射。该设备还包括多个光传感器和设备电路。该设备还包括多个光导,该光导从接收激发光和来自至少一个相应的反应凹槽的光发射的输入区域朝向至少一个相应的光传感器延伸。该光导包括第一过滤区域和第二过滤区域,所述第一过滤区域过滤激发光并允许第一波长的光发射传递到至少一个相应的光传感器,所述第二过滤区域过滤激发光并允许第二波长的光发射传递到至少一个相应的光传感器。
搜索关键词: 过滤 检测 设备 与其 相关 方法
【主权项】:
1.一种设备,包括:反应结构,所述反应结构包含反应溶液和多个反应位点,所述反应位点在用所述反应溶液处理之后响应于入射激发光而产生光发射,所述反应结构被定位在设备基座上方;多个光传感器,所述多个光传感器在所述设备基座内;设备电路,所述设备电路在所述设备基座内,所述设备电路被电耦合至所述多个光传感器以基于由所述多个光传感器检测到的光子而传输数据信号;以及多个光导,所述多个光导具有输入区域,以接收所述入射激发光和来自至少一个相应的反应位点的所述光发射,所述光导从所述输入区域朝向至少一个相应的光传感器延伸到所述设备基座中,其中所述多个光导中的每个包括第一过滤区域和第二过滤区域,所述第一过滤区域由第一过滤材料形成,以过滤至少第一波长的所述入射激发光并且允许第二波长的所述光发射穿过其到达所述至少一个相应的光传感器,所述第二过滤区域由第二过滤材料形成,以过滤至少所述第一波长的所述入射激发光并且允许第三波长的所述光发射穿过其到达所述至少一个相应的光传感器。
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